怎么分离50nm的sio2（分离sio2和s的物理方法）

1. 洗涤sio2的方法
2. baso4中的sio2杂质怎么去
3. 二氧化锰与二氧化硅怎么分离
4. 二氧化硅提纯硅的化学方程式
5. 二氧化硅溶解后怎么过滤杂质

洗涤sio2的方法

第一，加稀盐酸溶解。碳酸钙转化为氯化钙，二氧化硅不溶于稀盐酸。CaCO3 +2HCl= CaCl2 +CO2 +H2O第二，过滤，二氧化硅和氯化钙就被分开了。

第三，氯化钙溶液加过量碳酸钠。Na2CO3+CaCl2=CaCO3↓+2NaCl第四，过滤，洗涤，得到的就是不含二氧化硅杂质的碳酸钙。

baso4中的sio2杂质怎么去

硫酸钡（baso4）中的二氧化硅（sio2）杂质可以通过以下方法去除：
重结晶法：将含有二氧化硅杂质的硫酸钡溶于热水中，加入适量的盐酸或硫酸，使其溶解。然后将溶液过滤，去除不溶物。将滤液冷却至室温，使硫酸钡结晶析出。重复以上步骤多次，可以提高硫酸钡的纯度。
沉淀法：将含有二氧化硅杂质的硫酸钡溶于热水中，加入适量的氢氧化钠或氢氧化钾溶液，使其生成硅酸钠或硅酸钾沉淀。然后将溶液过滤，去除沉淀。将滤液中加入适量的硫酸，使硫酸钡沉淀析出。重复以上步骤多次，可以提高硫酸钡的纯度。
浮选法：将含有二氧化硅杂质的硫酸钡与水混合，制成矿浆。然后向矿浆中加入适量的浮选药剂，使硫酸钡与二氧化硅杂质分离开来。最后将分离出来的硫酸钡过滤、干燥即可。
化学沉淀法：将含有二氧化硅杂质的硫酸钡溶于热水中，加入适量的氯化铵或氯化钙溶液，使其生成硅酸钙或硅酸铵沉淀。然后将溶液过滤，去除沉淀。将滤液中加入适量的硫酸，使硫酸钡沉淀析出。重复以上步骤多次，可以提高硫酸钡的纯度。
需要注意的是，以上方法仅供参考，具体的去除方法需要根据实际情况进行选择。在操作过程中，需要严格控制反应条件和操作步骤，以确保去除效果和安全性。

用氢氧化钠溶液洗涤可除去二氧化硅。

二氧化锰与二氧化硅怎么分离

加水，二氧化锰不溶，锰酸钾溶，过滤，烘干，得二氧化锰

在强碱性溶液（pH大于13.5）中稳定，MnO42-的绿色可长期保持

在酸性或中性的环境下，MnO42-会发生歧化反应，生成MnO4-和MnO2 ：3K2MnO4+2CO2===2KMnO4+2MnO2↓+2K2CO3

实验所需玻璃仪器：_玻璃棒_，__烧杯__

具体实验步骤1、溶解， 2、过滤 3、烘干

二氧化硅提纯硅的化学方程式

二氧化硅制备高纯硅的反应方程式是:

1. SiO2+2C==Si+2CO

2. Si+2Cl2==SiCl4

3. SiCl4+2H2==Si+4HCl

第一步 是粗硅 含有未反应完全的杂质碳第二步 转化为SiCl4 沸点较低 50多度 容易转化为气体 从而起到和杂质碳分离的目的,

二氧化硅溶解后怎么过滤杂质

第一种方法：加入盐酸，溶解后过滤，得到了二氧化硅 参与反应的化学方程式： Fe2O3 + 6HCl == 2FeCl3 + 3H2O 第二种方法：加入氢氧化钠溶液，溶解后过滤，然后通入过量的二氧化碳，过滤出的沉淀高温灼烧或者加热，然后就得到了二氧化硅SiO2+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2↑Na2SiO3+CO2+2H2O=2NaHCO3+H2SiO3↓H2SiO3==高温==SiO2+H2O

二氧化硅是生产白炭黑的主要原料，目前国内大部分生产厂家都是采用传统的沉淀法制备，以硅酸钠溶液和硫酸为原料，在一定的温度下调节pH值，得到二氧化硅沉淀，然后从反应器出来的稀浆料经过压滤机过滤洗涤，除去硫酸钠和杂质，随后把得到的滤饼搅拌成稀浆料，最后干燥得到二氧化硅产品。

但现有的过滤设备通常结构复杂、操作不便，运行能耗大，生产成本较高，同时对二氧化硅的分离不够彻底。

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